什么是x-ray光刻？

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X-ray光刻是一种利用X射线作为曝光源，在光刻胶上转移微米甚至纳米级图案的先进光刻技术，属于短波长曝光技术，目的是突破传统光刻分辨率的极限。

x-ray光刻原理？

如上图，

图中单词/词组	中文含义	功能或作用解释
Synchrotron	同步加速器	用来产生高强度、高准直性的 X 射线，是X光刻的主要光源。
X-ray	X射线	一种波长非常短的电磁波，可穿透物质，用于高分辨率图案转移。
UHV	超高真空（Ultra High Vacuum）	提供干净、无污染环境，避免X射线散射与能量损失。
Beamline window	束线窗口	用于让X射线从真空区域射出，照射到掩模；材质需对X射线透明。
Scan	扫描	因光斑小，需要掩膜或晶圆移动进行扫描曝光，实现大面积图案转移。
Mask	掩膜	上面有图案信息，X射线穿过透明区，被吸收于吸收层的图案区域。
Absorber	吸收层	阻挡X射线通过的图案区域，形成曝光阴影；常用金属如Au、W等。
Membrane	支撑膜	支撑吸收层的基底，材料需对X射线高透过率，薄、强度高。常见如聚酰亚胺、金刚石、Be等。
Leveling	调平	指掩膜与晶圆之间的间距与平整度调节，确保均匀图案转移。
Gap	间隙	掩膜与晶圆之间的距离（一般几微米），保持非接触式曝光。
Resist	光刻胶（X-ray resist）	受X射线照射后发生化学反应，形成图案的敏感材料，正胶或负胶皆可。
Wafer	晶圆	晶圆

1，X射线产生：

同步加速器发出高强度、方向性好的X-ray光束，穿过束线窗口。

2，X射线穿透掩膜：

掩膜上的吸收层（图中黄色）会阻挡X-ray，而透明区域（绿色膜层）则允许X-ray通过。

3，图案投影到晶圆上：

X-ray穿透掩膜后，将图案投影到下面的光刻胶上。

由于X射线几乎没有衍射效应，因此图案精度极高，非常适合纳米级图形制作。

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