ALD

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  • 闲聊原子层沉积(ALD)
    ALD是一种原子层沉积技术,在芯片制造中用于层层均匀、干净且可控地铺设材料,适用于晶体管栅介质层、存储器、金属衬层等多个应用场景。尽管其速度较慢且昂贵,但由于能够实现极高的精度和一致性,芯片制造商仍然青睐此技术。
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    10/21 15:50
  • 世界芯片产业地图——东北三省
    作为中国重要的老工业基地,东北三省拥有深厚的制造业积淀和丰富的科研资源,近年来在半导体设备、材料、制造等关键环节实现了多项技术突破,形成了以辽宁沈阳为核心、辐射吉林和黑龙江的产业发展格局。在半导体设备特别是薄膜沉积、涂胶显影、精密零部件,尤其是第三代半导体材料领域实现了技术突破,部分产品达到国际先进水平。 2024 年辽宁半导体产业产值达420亿元,沈阳半导体装备产业突破 100 亿元,展现出良好
    世界芯片产业地图——东北三省
  • 全球ALD设备、前驱体供应商及产品信息梳理
    常晟源博士生整理并发布了半导体领域ALD设备和耗材供应商及产品信息,覆盖近十年行业数据,包含大量原创行业景气度分析和研报,并开放给知识星球会员使用。此外还提供了丰富的线上半导体知识讲座资源。
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    10/13 09:21
    ALD
    全球ALD设备、前驱体供应商及产品信息梳理
  • ALD工艺在半导体产品中的应用梳理
    复旦微电子博士生常晟源带领实习生整理半导体行业数据,特别是ALD工艺的应用梳理,并分享了近十年覆盖八成半导体制造上游供应链的行业数据和大量原创行业景气度分析报告。
    ALD工艺在半导体产品中的应用梳理
  • 半导体设备行业“热”背后的冷思考
    光刻机、离子注入机…这些关键设备国产化率仍不足5%。
    半导体设备行业“热”背后的冷思考